喷射消泡均质泵在半导体领域里的许多工艺场合是用来代替均质泵,尤其是溅射、刻蚀等装置都采用喷射消泡均质泵作为主泵。由于喷射消泡均质泵对水蒸气的抽速仅为同口径均质抽速的四分之一,所以喷射消泡均质泵的排气时间比均质泵长。为了提高抽速,在喷射消泡均质泵的入口侧装一个-130℃~-150℃的低温冷板,水蒸气被低温板捕获,其他气体则由喷射消泡均质泵抽走。这种喷射消泡均质泵在真空镀膜装置上应用,既提高了生产效率又改善了膜层质量。随着中国半导体工业、薄膜产业和科学研究事业迅速发展,喷射消泡均质泵应该是中国均质泵制造业发展的重点。首先,喷射消泡均质泵要从小到大建立完整系列,以满足不同场合的需要。
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